產品名稱：低溫恒溫槽

低溫恒溫槽。生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積係統、原子沉積係統等。醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波**機、醫用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。

低溫恒溫槽
產品特點：

節約能源——在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在係統回路中循環使用，節約大量的水資源。

效率更高——一台循環水設備可同時滿足多台外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用於冷凝實驗。

控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀

**性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種**保障功能。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其*低溫度必須在0℃以上。

低溫恒溫槽，冷卻水選型相關：通常，製冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。製冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用於AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。製冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用於X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高製冷恒溫要求設備。

低溫恒溫槽，應用範圍：

對半導體製造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗淨轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標誌裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產業用機器發熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗淨機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈衝調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用上等的純淨水在機內外循環冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。

低溫恒溫槽，常見問題解答：

1、水循環使用了一年多都很正常，可現在製冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯？

答：水循環使用很簡單，但是定期的維護保養工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是冇有定期做維護保養引起的。水循環自身的電功率和製冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走，如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發，製冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下製冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環境溫度太高引起的。

2、水循環以前使用都很正常，可現在發現噪音比以前大很多，這是什麼原因？

答：前麵提到過水循環的日常維護工作，這個問題也與之有關。大家都知道，水裡麵有很少部分的雜質，就是蒸餾水在加到水箱後也不可能完全保證一點雜質都冇有。對於水循環而言，一般溫度都設置在20℃，特彆適應微生物的生長和繁衍。時間長了以後這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢，水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表麵，造成換熱器的傳熱效果變差，製冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作，定時清洗內槽，長期停用，保持槽內乾燥。水循環裡麵好像有漏水，有時地麵一會兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來說在正常使用的過程中，水路是不會有泄漏的。在環境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時，在水循環的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結露水，累積多了以後就滴到地麵上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話，打開空調降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產生。